国产浸没式光刻机开造，中国离EUV量产仍远

中国据报已开始制造国产浸没式深紫外光刻机，但能否通过晶圆厂验证、稳定运行并形成批量交付，尚无公开证据。蔡司高管判断，中国实现具备商业化能力的极紫外光刻机仍可能需要约15年，显示从追上成熟深紫外设备到攻克EUV，仍横着一道系统工程鸿沟。